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提供從器件研發(fā)到批量生產(chǎn)的全流程裝備解決方案
管式熱工設(shè)備 立式爐
批式垂直結(jié)構(gòu)熱處理設(shè)備，適用于 8 英寸及以下晶圓的高溫工藝設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)擴(kuò)散、氧化、退火等關(guān)鍵制程，特別設(shè)計(jì)為科研機(jī)構(gòu)提供靈活工藝驗(yàn)證平臺(tái)。
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管式熱工設(shè)備 臥式爐
專為科研機(jī)構(gòu)和高校設(shè)計(jì)的小批量高精度設(shè)備，支持氧化、擴(kuò)散、退火、LPCVD 等工藝，兼具生產(chǎn)、實(shí)驗(yàn)教學(xué)與工藝開發(fā)功能。
PVD 磁控濺射鍍膜機(jī)
運(yùn)用物理氣相沉積（PVD）方法，用來(lái)在基片表面沉積各種金屬、合金、氧化物、氮化物等薄膜。提高了沉積效率和膜的質(zhì)量。沉積速率快、沉積溫度低、膜附著力好、密度高、均勻性好。
干法刻蝕 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)
基于射頻放電原理的干法刻蝕設(shè)備，通過(guò)物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)結(jié)合實(shí)現(xiàn)材料去除，適用于多種半導(dǎo)體材料刻蝕。
干法刻蝕 離子束刻蝕機(jī)(IBE)
采用離子束物理刻蝕技術(shù)，適用于難刻蝕材料的高精度加工，尤其在金屬、陶瓷等硬脆材料處理上具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。
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